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提高LED防爆燈發(fā)光效率的十個技術(shù)點

2021-05-07

一、什么是LED防爆燈的發(fā)光效率?

LED防爆燈的發(fā)光效率就是指電光源的光視效能以消耗1W電功率產(chǎn)生多少流明光通量,也就是光通量與功率的比值,單位是流/瓦(1m/W)。一般的要求發(fā)光效率越高越好。不斷完善LED防爆燈的發(fā)光效率,可以提高光輸出強度,使資源的利用率變得更高。通常LED防爆燈廠家都是通過LED燈的原理來提高等的發(fā)光效率,就像下面這幾種一樣:

1、利用電優(yōu)化或電子晶體等來改善器件GaNLED電流的擴展特性;

2、提高電流分布的均勻性;

3、減少電流的聚集效應;

4、通過實現(xiàn)提高芯片的出光效率和轉(zhuǎn)化效率,提高器件爹光電效應,提升產(chǎn)品的性能。

新黎明LED防爆燈.jpg

新黎明科創(chuàng)LED防爆燈


二、提高LED防爆燈發(fā)光效率的具體措施介紹:

1、LED防爆燈的燈珠晶粒外形的改變:改變LED防爆燈的矩形外觀形狀是一個有效提升發(fā)光效率的方法。可以根據(jù)光學原理去改。

2、LED防爆燈表面粗話技術(shù):將組件的內(nèi)部以及外部的幾何形狀粗比,破壞光線在組件內(nèi)部的全反射,提升組件的使用效率。粗化方法基本上是在組件的幾何形狀上形成規(guī)則的凹凸形狀,而這種規(guī)則分布的結(jié)構(gòu)也依所在位置的不同分成了兩種形式,一種是在組件內(nèi)設(shè)置凹凸形狀,另一種方式是在組件上方制作規(guī)則的凹凸形狀,并在組件背面設(shè)置反射層。目前若使用波長為405nm的紫外組件,可多得43%外部量子效率,取出效率為60%。是目前位置全球的外部量子效率與取出效率。

3、LED防爆燈芯片黏貼技術(shù):是為了減少GaAs基板對LED所放出光線的吸收,部分研究機構(gòu)提出透明基板是粘貼技術(shù)。這也是LED燈芯片的研究方向之一。

4、LED防爆燈覆晶封裝技術(shù):用FlipChip結(jié)構(gòu)代替藍寶毛基板的GaN系列的材料即將傳統(tǒng)的組件反置,并在p型電上方制作反射率較高的反射層,藉以將原先從組件上方發(fā)出的光線從組件其它的發(fā)光角度導出,而由藍寶石基板端緣取光。這樣的方法因為降低了在電側(cè)的光損耗,可有接近于傳統(tǒng)封裝方式兩倍左右的光量輸出。另一方面,因為覆晶結(jié)構(gòu)可直接藉由電或是凸塊與封裝結(jié)構(gòu)中的散熱結(jié)構(gòu)直接接觸,而大幅提升組件的散熱效果,進一步提升組件的光通量。

5、LED防爆燈透明襯底技術(shù):去除GaAs襯底,代之于全透明的GaP晶體。由于芯片內(nèi)除去了襯底吸收區(qū),使量子效率從4%提升到了25‐30%。為進一步減小電區(qū)的吸收,有人將這種透明襯底型的InGaAlP器件制作成截角倒錐體的外形,使量子效率有了更大的提高。

6、LED防爆燈金屬膜反射技術(shù):即MB制程,首先去除GaAs襯底,然后在其表面與Si基底表面同時蒸鍍Al質(zhì)金屬膜,然后在一定的溫度與壓力下熔接在一起。如此,從發(fā)光層照射到基板的光線被Al質(zhì)金屬膜層反射至芯片表面,從而使器件的發(fā)光效率提高2.5倍以上。

7、LED防爆燈表面微結(jié)構(gòu)技術(shù):表面微結(jié)構(gòu)制程是提高器件出光效率的又一個有效技術(shù),該技術(shù)的基本要點是在芯片表面刻蝕大量尺寸為光波長量級的小結(jié)構(gòu),每個結(jié)構(gòu)呈截角四面體狀,如此不但擴展了出光面積,而且改變了光在芯片表面處的折射方向,從而使透光效率明顯提高。測量指出,對于窗口層厚度為20μm的器件,出光效率可增長30%。當窗口層厚度減至10μm時,出光效率將有60%的改進。對于585‐625nm波長的LED器件,制作紋理結(jié)構(gòu)后,發(fā)光效率可達30lm/w,其值已接近透明襯底器件的水平。

8、LED防爆燈倒裝芯片技術(shù):通過MOCVD技術(shù)在蘭寶石襯底上生長GaN基LED結(jié)構(gòu)層,由P/N結(jié)發(fā)光區(qū)發(fā)出的光透過上面的P型區(qū)射出。由于P型GaN傳導性能不佳,為獲得良好的電流擴展,需要通過蒸鍍技術(shù)在P區(qū)表面形成一層Ni‐Au組成的金屬電層。P區(qū)引線通過該層金屬薄膜引出。為獲得好的電流擴展,Ni‐Au金屬電層就不能太薄。為此,器件的發(fā)光效率就會受到很大影響,通常要同時兼顧電流擴展與出光效率二個因素。但無論在什么情況下,金屬薄膜的存在,總會使透光性能變差。此外,引線焊點的存在也使器件的出光效率受到影響。采用GaNLED倒裝芯片的結(jié)構(gòu)可以從根本上消除金屬薄膜透光性能差,發(fā)光效率差的現(xiàn)象。

9、LED防爆燈芯片鍵合技術(shù):隨著對鍵合機理的逐漸認識和鍵合制程技術(shù)的逐漸成熟,多種不同材料的芯片之間已經(jīng)能夠?qū)崿F(xiàn)互相鍵合,從而可能形成一些用途的材料和器件。如在硅片上形成硅化物層再進行鍵合就可以形成一種新的結(jié)構(gòu)。由于硅化物的電導率很高,因此可以代替雙型器件中的隱埋層,從而減小RC常數(shù)。

10、LED防爆燈激光剝離技術(shù):激光剝離技術(shù)(LLO)是利用激光能量分解GaN/藍寶石接口處的GaN緩沖層,從而實現(xiàn)LED外延片從藍寶石襯底分離。技術(shù)優(yōu)點是外延片轉(zhuǎn)移到高熱導率的熱沉上,能夠改善大尺寸芯片中電流擴展。n面為出光面:發(fā)光面積增大,電擋光小,便于制備微結(jié)構(gòu),并且減少刻蝕、磨片、劃片。更重要的是藍寶石襯底可以重復運用。

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